Identificación del producto
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Artículo |
Especificación |
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Nombre del producto |
Ácido clorhídrico G4 |
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Categoría de producto |
Químico húmedo electrónico semiconductor |
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Nombre químico |
Ácido clorhídrico |
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Fórmula química |
HCl |
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No. CAS |
7647-01-0 |
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Peso molecular |
36.46 |
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Número ONU |
1789 |
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Calificación |
SEMI G4 Ultra-Grado electrónico de alta pureza |
Descripción general del producto
El ácido clorhídrico G4 es un ácido inorgánico de alta-pureza especialmente purificado para la fabricación de obleas semiconductoras y la fabricación de microelectrónica avanzada. Producido a través de procesos de ultra-purificación, filtración de baja-contaminación y procesos de llenado de sala limpia-, este producto presenta iones metálicos de trazas ultra-bajas, impurezas aniónicas y micropartículas-, cumpliendo totalmente con las especificaciones de la industria SEMI G4.
Es un químico húmedo fundamental para procesos-de front-end de semiconductores, que elimina eficazmente contaminantes metálicos, residuos iónicos e impurezas de óxido en las superficies de las obleas. El estricto control de impurezas elimina los riesgos de micro-contaminación, lo que garantiza un alto rendimiento y un rendimiento estable para los procesos avanzados de fabricación de chips.
Apariencia:Líquido incoloro, transparente y claro con ligero olor acre.
Especificaciones Técnicas (Estándar SEMI G4)
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Artículo de prueba |
Especificación |
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Ensayo de HCl |
36,0 ~ 38,0% en peso |
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Apariencia |
Líquido transparente incoloro y claro. |
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Color (APHA) |
Menor o igual a 10 |
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Densidad a 20 grados |
1,18 ~ 1,19 g/cm³ |
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Residuo de evaporación |
Menor o igual a 50 ppb |
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Metales traza individuales (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr) |
Menos o igual a 10 ppb cada uno |
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Sulfato (SO₄²⁻) |
Menor o igual a 50 ppb |
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Nitrato (NO₃⁻) |
Menor o igual a 50 ppb |
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Cloro libre (Cl₂) |
Menor o igual a 50 ppb |
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Fosfato (PO₄³⁻) |
Menor o igual a 30 ppb |
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Partículas mayores o iguales a 0,2μm |
Menor o igual a 100 unidades/mL |
Nota:Todos los datos de prueba se basan en el COA (Certificado de análisis) específico del lote-.
Aplicaciones (proceso húmedo de semiconductores)
Limpieza de superficies de oblea:Elimine iones metálicos residuales, contaminantes inorgánicos y capas de óxido superficiales en obleas de silicio, mejore la limpieza de la superficie de las obleas para procesos posteriores de grabado y deposición.
Grabado húmedo de semiconductores:Se utiliza para el micro-grabado de precisión de materiales-a base de silicio y sustratos semiconductores compuestos con una velocidad de grabado estable y un efecto de procesamiento uniforme.
Preparación de la solución del proceso:Formule soluciones mixtas de limpieza y grabado para el proceso de limpieza RCA, que cumplan con los requisitos de fabricación avanzados de semiconductores-frontales.
Proceso avanzado de embalaje y MEMS:Tratamiento de superficies y eliminación de impurezas para dispositivos MEMS, empaquetado de chips y procesamiento de componentes microelectrónicos.
Estándar de embalaje y llenado
Tipo de embalaje:Tambor sellado de HDPE de calidad limpia-/tote limpio IBC
Especificación común:Tambor pequeño de 25 kg/30 kg, contenedor IBC de 1000 kg
Ambiente de llenado:Sala limpia clase 1000, cero contaminación secundaria, introducción de partículas e impurezas estrictamente controlada
Estándar de sellado:Envases sellados profesionales-resistentes a ácidos, anti-volatilización y anti-fugas
Almacenamiento y vida útil
● Almacenar en un almacén de productos químicos fresco, seco, ventilado y exclusivo, mantenerlo herméticamente cerrado, alejado de la luz solar directa, altas temperaturas y fuentes de calor.
● Aislar de sustancias alcalinas, oxidantes y químicos orgánicos para evitar reacciones químicas y contaminación.
● Evite estrictamente la colocación abierta-a largo plazo para evitar el deterioro volátil y la absorción de impurezas.
● Vida útil: 12 meses en condiciones estándar de almacenamiento sellado
Manejo y precauciones de seguridad
● El ácido clorhídrico es corrosivo y volátil. Los operadores deben usar EPP completo: guantes-resistentes a ácidos, gafas químicas, delantal-resistente a la corrosión y ropa protectora.
● Operar en un ambiente ventilado; Evite la inhalación de gases volátiles y el contacto directo con la piel y los ojos.
● Operación de dilución: agregue lentamente ácido al agua, nunca agregue agua al ácido clorhídrico concentrado para evitar salpicaduras y lesiones.
● En caso de contacto o fuga, siga las pautas de emergencia de la SDS para una limpieza y eliminación oportunas.
● Para conocer la clasificación completa de peligros, las reglas de transporte y las medidas de primeros{0}}auxilios, consulte el documento SDS oficial.
Seguro de calidad
Cada lote de ácido clorhídrico G4 se produce e inspecciona de acuerdo con los estándares internacionales SEMI G4. Cada envío va acompañado de un COA de lote oficial. Todos los procesos de producción, purificación y llenado adoptan un estricto control de contaminación en salas limpias-para garantizar una calidad de producto estable y consistente para aplicaciones de fabricación de semiconductores de alta-extremidad.
Especificación del ácido clorhídrico
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Nombre del producto |
Calificación |
Masa molecular relativa |
fórmula molecular |
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Ácido clorhídrico |
Productos químicos electrónicos G4 |
36.46 |
HCl |
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Inspeccionar artículos |
Presupuesto |
Inspeccionar artículos |
Presupuesto |
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Apariencia |
Solución acuosa transparente incolora de cloruro de hidrógeno. |
Níquel (Ni), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Ensayo (HCl), % |
36.0~38.0 |
Cúprico (Cu), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Cromaticidad, unidades Hazen |
Menor o igual a 10 |
Zinc (Zn), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Residuo de combustión (base sulfato), ppm |
Menor o igual a 3 |
Galio (Ga), ppt |
Menor o igual a 100 |
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cloro libre disponible (Cl), ppb |
Menor o igual a 100 |
Germanio (Ge), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Amonio (NH₄), ppb |
Menor o igual a 100 |
Arsénico (As), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Sulfato (SO₄), ppb |
Menor o igual a 100 |
Stantium (Sr), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Sulfitos (SO₂), ppb |
Menor o igual a 100 |
Circonio (Zr), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Fosfato (PO₄), ppb |
Menor o igual a 100 |
Niobio (Nb), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Litio (Li), ppt |
Menor o igual a 100 |
Molibdeno (Mo), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Berilio (Be), ppt |
Menor o igual a 100 |
Plata (Ag), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Boro (B), ppt |
Menor o igual a 100 |
Cadmio (Cd), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Sodio (Na), ppt |
Menor o igual a 100 |
Estaño (Sn), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Magnesio (Mg), ppt |
Menor o igual a 100 |
Bario (Ba), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Aluminio (Al), ppt |
Menor o igual a 100 |
Tantalio (Ta), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Potasio (K), ppt |
Menor o igual a 100 |
Oro (Au), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Calcio (Ca), ppt |
Menor o igual a 100 |
Talio (Tl), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Titanio (Ti), ppt |
Menor o igual a 100 |
Plomo (Pb), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Vanadio (V), ppt |
Menor o igual a 100 |
Bismuto (Bi), ppt |
Menor o igual a 100 |
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Cromo (Cr), ppt |
Menor o igual a 100 |
Partículas (mayores o iguales a 0,2 μm), unidades/mL |
Menor o igual a 300 |
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Manganeso (Mn), ppt |
Menor o igual a 100 |
Partículas (mayores o iguales a 0,3 μm), unidades/mL |
Menor o igual a 100 |
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Hierro (Fe), ppt |
Menor o igual a 100 |
Partículas (mayores o iguales a 0,5 μm), unidades/mL |
Menor o igual a 5 |
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Cobalto (Co), ppt |
Menor o igual a 100 |
Fin del informe |
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